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    以氧化鉿當作閘極絕緣層之小尺寸金屬氧化物薄膜電晶體電性改善之研究
    • 光電工程研究所 /104/ 碩士
    • 研究生: 鄧宇桓 指導教授: 范慶麟
    • 由於金屬氧化物薄膜電晶體獨特的製程特質及材料特性,使它們在新興的薄膜電晶體應用上成為最具有競爭性的選擇,包含均勻性好可以應用在大尺寸的面板、低溫製程而應用於可撓式的結構以及低成本製作等特殊需求的產品…
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